Vacuum Microelectronics
暫譯: 真空微電子學

Wei Zhu

  • 出版商: Wiley
  • 出版日期: 2001-10-03
  • 售價: $980
  • 語言: 英文
  • 頁數: 408
  • 裝訂: Hardcover
  • ISBN: 047132244X
  • ISBN-13: 9780471322443
  • 相關分類: 微電子學 Microelectronics
  • 已絕版

商品描述

Description:

Expert coverage of vacuum microelectronics-principles, devices, and applications

The field of vacuum microelectronics has advanced so swiftly that commercial devices are being fabricated, and applications are being developed in displays, wireless communications, spacecraft, and electronics for use in harsh environments. It is a rapidly evolving, interdisciplinary field encompassing electrical engineering, materials science, vacuum engineering, and applied physics.

This book surveys the fundamentals, technology, and device applications of this nascent field. Editor Wei Zhu brings together some of the world's foremost experts to provide comprehensive and in-depth coverage of the entire spectrum of vacuum microelectronics. Topics include:
* Field emission theory
* Metal and silicon field emitter arrays
* Novel cold cathode materials
* Field emission flat panel displays
* Cold cathode microwave devices

Vacuum Microelectronics is intended for practitioners in the display, microwave, telecommunications, and microelectronics industries and in government and university research laboratories, as well as for graduate students majoring in electrical engineering, materials science, and physics. It provides cutting-edge, expert coverage of the subject and serves as both an introductory text and a professional reference.

 

Table of Contents:

Preface.

List of Contributors.

1. Historical Overview (Takao Utsumi).

1.1. Introduction.

1.2. Shoulders' Proposal.

1.3. Groundbreaking Work.

1.4. Invention of Spindt Cathode.

1.5. Field Emitter Arrays.

1.6. New Cathode Materials.

1.7. Future.

Dedication.

References.

2. Technological Overview (Gregory P. Kochanski, Wei Zhu, and Yehuda Goren).

2.1. Introduction.

2.2. Promise and Reality.

2.3. Case Studies.

2.4. Outlook.

References.

3. Theory of Field Emission (Kevin L. Jensen).

3.1. Introduction.

3.2. One-Dimensional Tunneling Theory: Metals.

3.3. Emission from Multi-Dimensional Structures.

3.4. Conclusion.

Acknowledgments.

References.

4. Spindt Field Emitter Arrays (Charles A. (Capp) Spindt, Ivor Brodie, Christopher E. Holland, and Paul R. Schwoebel).

4.1. Introduction.

4.2. A Brief History of the Spindt Cathode.

4.3. Fabrication Technology.

4.4. Performance.

4.5. Applications and Ongoing Developments.

4.6. Summary.

Acknowledgments.

References.

5. Silicon Field Emitter Arrays (Jonathan Shaw and Junji Itoh).

5.1. Introduction.

5.2. Fabrication of Silicon FEAs.

5.3. Free Electron Theory of Field Emission.

5.4. Emission Characterization of Silicon FEAs.

5.5. Local Circuit Elements.

5.6. Summary.

Dedication.

References.

6. Novel Cold Cathode Materials (Wei Zhu, Peter K. Baumann, and Christopher A. Bower).

6.1. Introduction.

6.2. Diamond Emitters.

6.3. Carbon Nanotube Emitters.

6.4. Other Cold Cathodes.

6.5. Conclusion.

References.

7. Field Emission Flat Panel Displays (Heinz H. Busta).

7.1. Introduction.

7.2. Field Emission Displays.

7.3. Other Display Technologies.

7.4. Summary.

Institutions Involved in FED Commercialization.

Acknowledgments.

References.

8. Cold Cathode Microwave Devices (R. Allen Murphy and Mary Anne Kodis).

8.1. Introduction.

8.2. Microwave Amplifiers.

8.3. Field Emitter Arrays.

8.4. Characteristics of FEA-Cathode Microwave Tubes.

8.5. Future Work.

References.

Index.

商品描述(中文翻譯)

**描述:**
真空微電子學的專家覆蓋 - 原理、設備與應用

真空微電子學領域的發展迅速,商業設備已經開始製造,並且在顯示器、無線通信、太空船以及用於惡劣環境的電子設備中開發應用。這是一個快速演變的跨學科領域,涵蓋了電氣工程、材料科學、真空工程和應用物理學。

本書調查了這一新興領域的基本原理、技術和設備應用。編輯朱偉匯集了世界上最頂尖的專家,提供了對真空微電子學整個範疇的全面和深入的覆蓋。主題包括:
* 場發射理論
* 金屬和矽場發射器陣列
* 新型冷陰極材料
* 場發射平面顯示器
* 冷陰極微波設備

《真空微電子學》旨在為顯示器、微波、電信和微電子行業的從業者,以及政府和大學研究實驗室的研究人員,還有主修電氣工程、材料科學和物理的研究生提供。它提供了該主題的前沿專家覆蓋,並作為入門教材和專業參考書。

**目錄:**
前言。
貢獻者名單。
1. 歷史概述(Takao Utsumi)。
1.1. 介紹。
1.2. Shoulders 的提案。
1.3. 開創性工作。
1.4. Spindt 陰極的發明。
1.5. 場發射器陣列。
1.6. 新的陰極材料。
1.7. 未來。
獻辭。
參考文獻。
2. 技術概述(Gregory P. Kochanski、朱偉和 Yehuda Goren)。
2.1. 介紹。
2.2. 承諾與現實。
2.3. 案例研究。
2.4. 展望。
參考文獻。
3. 場發射理論(Kevin L. Jensen)。
3.1. 介紹。
3.2. 一維隧道理論:金屬。
3.3. 多維結構的發射。
3.4. 結論。
致謝。
參考文獻。
4. Spindt 場發射器陣列(Charles A. (Capp) Spindt、Ivor Brodie、Christopher E. Holland 和 Paul R. Schwoebel)。
4.1. 介紹。
4.2. Spindt 陰極的簡史。
4.3. 製造技術。
4.4. 性能。
4.5. 應用與持續發展。
4.6. 總結。
致謝。
參考文獻。
5. 矽場發射器陣列(Jonathan Shaw 和 Junji Itoh)。
5.1. 介紹。
5.2. 矽 FEAs 的製造。
5.3. 場發射的自由電子理論。
5.4. 矽 FEAs 的發射特性。
5.5. 局部電路元件。
5.6. 總結。
獻辭。
參考文獻。
6. 新型冷陰極材料(朱偉、Peter K. Baumann 和 Christopher A. Bower)。
6.1. 介紹。
6.2. 鑽石發射器。
6.3. 碳納米管發射器。
6.4. 其他冷陰極。
6.5. 結論。
參考文獻。
7. 場發射平面顯示器(Heinz H. Busta)。
7.1. 介紹。
7.2. 場發射顯示器。
7.3. 其他顯示技術。
7.4. 總結。
參與 FED 商業化的機構。
致謝。
參考文獻。
8. 冷陰極微波設備(R. Allen Murphy 和 Mary Anne Kodis)。
8.1. 介紹。
8.2. 微波放大器。
8.3. 場發射器陣列。
8.4. FEA-陰極微波管的特性。
8.5. 未來工作。
參考文獻。
索引。