集成電路先進工藝製造

陸衛 宋艷汝

集成電路先進工藝製造
  • 出版商: 上海科學技術出版社
  • 出版日期: 2025-03-01
  • 定價: $1,068
  • 售價: 8.5 折 $908
  • 語言: 簡體中文
  • 頁數: 436
  • ISBN: 7547870449
  • ISBN-13: 9787547870440

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商品描述

本書的特色如下。 綜合工藝、設備與廠務技術：融合了集成電路製造的理論基礎和前沿實踐技術，深入淺出地探討了集成電路製造的全過程。從芯片製造技術的歷史背景、基本原理，到各種製造工藝、設備原理、廠務動力及實踐技術，進行了全方位解析。以系統的方式呈現了芯片製造的覆雜性及其精妙之處，涵蓋了生產的各個環節，包括光刻、薄膜沈積、化學機械拋光、離子註入、刻蝕、鍵合、濕法清洗、量測技術及其相關工藝設備，以及超凈室動力與環境、特種氣體、化學品、安全生產管理等廠務技術內容。不僅詳細介紹了當前主流的製造技術，還深入講解了產業界的量產設備(如步進式光刻機、電子束曝光機、離子註入機、鍵合機、化學機械拋光機等)的基本原理、動力需求和應用實踐。特別是在步進式光刻技術方面，詳細介紹了特色的掩模版設計、任務編寫等技術應用，使讀者能夠理解產業界光刻機量產設備與科研設備之間的區別。 重視技能實踐：通過大量工藝設備的使用案例分析、實驗數據、設備操作標準程序(standard operating procedure，SOP)和教學實踐視頻，強調了對集成電路製造實踐技能的訓練，幫助讀者掌握實際操作能力。 產學研協作打造：本教材由產學研多方共同合作完成，匯聚了上海科技大學的學術支持和眾多產業界專家、資深工程師的實踐經驗，確保內容的權威性和時效性。

作者簡介

陸衛，上海科技大學教授，上海科技大學物質科學與技術學院執行院長、中國空間科學學會副理事長。曾任中國科學院紅外物理國家重點實驗室主任和中國科學院上海技術物理研究所所長。曾於1996年獲國家傑出青年基金資助，並主持國家自然科學基金委創新群體項目和國家重大科研儀器研製項目（部門推薦）。研究方向為光電子材料與器件及其相關凝聚態物理、光子晶體及其光電技術中的應用。獲得國家自然科學二等獎、國家技術發明獎二等獎、求是傑出青年科學家獎等諸多獎項。在Science等國際學術學術期刊上發表論文300餘篇，授權國家發明專利40多項，出版《半導體量子器件物理》等專著2部。

目錄大綱

第1章 集成電路的發展與現狀
1.1 集成電路概況
1.1.1 集成電路的概念
1.1.2 集成電路的分類
1.1.3 芯片及其分類
1.1.4 芯片、集成電路與半導體的關系
1.2 集成電路的發展
1.2.1 真空管
1.2.2 電子管的應用——門電路
1.2.3 晶體管
1.2.4 集成電路
1.3 集成電路的製造
1.3.1 芯片製造模式
1.3.2 芯片製造流程
1.4 中國集成電路產業的現狀
1.4.1 集成電路產業鏈分析
1.4.2 集成電路產業結構及規模
1.4.3 集成電路產業鏈的發展現狀
第2章 光刻技術
2.1 光刻流程概況
2.2 氣相成底膜
2.2.1 氣相成底膜的作用
2.2.2 工藝規範
2.2.3 HMDS烘箱
2.2.4 廠務動力配套要求
2.2.5 HMDS烘箱的操作規範及註意事項
2.3 勻膠
2.3.1 勻膠的目的及要求
2.3.2 勻膠機
2.3.3 廠務動力配套要求
2.4 軟烘
2.4.1 軟烘的目的
2.4.2 軟烘設備
2.4.3 廠務動力配套要求
2.5 曝光
2.5.1 工作原理
2.5.2 曝光中使用的光刻膠
2.5.3 曝光類型
2.6 計算光刻
2.7 顯影
2.7.1 顯影的作用
2.7.2 顯影機
2.7.3 廠務動力配套要求
2.8 勻膠顯影一體機
2.8.1 工作原理
2.8.2 廠務動力配套要求
2.8.3 勻膠顯影一體機的國際市場
第3章 薄膜沈積技術
3.1 薄膜沈積技術概述
3.1.1 薄膜制備工藝及特點
3.1.2 影響薄膜特性的因素
3.2 磁控濺射沈積技術
3.2.1 工作原理
3.2.2 磁控濺射技術的優缺點
3.2.3 磁控濺射儀
……
第4章 化學機械拋光技術
第5章 離子註入技術
第6章 刻蝕技術
第7章 量測技術
第8章 鍵合技術
第9章 濕法清洗技術
第10章 超凈室的動力環境及工藝設備佈局
第11章 超凈室的氣體
第12章 超凈室中的化學品
第13章 安全生產管理
附錄A 安全培訓
附錄B 化學符號對照表
附錄C 本書涉及的非法定計量單位換算表
參考文獻
索引

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