高科技廠務, 5/e

顏登通

高科技廠務, 5/e

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商品描述

本書特色

1.次世代半導體產業和新世代光電產業建廠廠務和潔淨室系統之最新資料和科技技術。
2.經驗和實務及運轉之技術和專業精華，不侷限理論而著重實務。
3.涵蓋廠務之所有系統和建廠工程實務規劃，將所有系統濃縮於一冊，便於研讀參考。

內容簡介

這些年來光電、生物科技迅速掘起加速更新，半導體也推陳出新挑戰極限，而這些改變則是需要嚴格的生產廠房及研發環境，但在目前市面是並無以有系統介紹建立高科技廠房的專業案頭書，有鑑於此，作者將二十多年來在高科技產業的執行及顧問經驗，將所有的廠務系統作全面有秩序的整理編寫。本書共分為十三大章，內容涵蓋了潔淨室和廠務之八大系統，除此之外有風險管理和建廠工程之規劃內容和執行原則介紹，本書的內容偏重實務之應用面和執行面。本書適合科大電機系、能源與冷凍空調工程系「半導體廠務」、「半導體與光電廠務設施」課程使用。

目錄大綱

第1章　潔淨室與空調
1-1　前　言
1-2　潔淨室定義與發展史
1-3　潔淨室標準與規格
1-4　潔淨室適用範圍
1-5　潔淨室分類
1-6　潔淨空氣流分析
1-7　不同障礙物對氣流之影響
1-8　潔淨室設計規劃
1-9　潔淨室震動、靜電、噪音、電磁干擾之防制
1-10　潔淨室空調設計
1-11　潔淨室建造、組裝材及程序
1-12　潔淨室測試與驗收
1-13　潔淨室運轉與維護管理
1-14　潔淨室自動化系統
1-15　潔淨室建造成本分析

第2章　超純水處理
2-1　前　言
2-1-1　純水之功能
2-1-2　水中之污染物
2-1-3　水中不純物之測定分析
2-2　超純水之製造
2-2-1　超純水之規範
2-2-2　純水製造類別分析
2-2-3　純水製造用膜材質比較
2-3　高科技產業用超純水
2-3-1　高科技廠純水製造流程
2-3-2　各製程模組件功能分析
2-3-3　超純水管路設計
2-3-4　超純水運轉、故障排除與品質監控

第3章　中央式化學品供應系統
3-1　前　言
3-2　化學品供應需求要素
3-3　化學品供應種類
3-4　化學品供應系統之架構與作用原理
3-5　化學品配管與安全考量
3-6　結　論

第4章　中央式氣體供應系統
4-1　前　言
4-2　光電廠和半導體廠所使用之氣體
4-3　氣體的規範
4-4　中央式氣體供應架構
4-5　供氣系統的安全技術
4-6　氣體的供應輸送
4-7　氣體供應的規劃與設計

第5章　廢水處理及回收
5-1　前　言
5-2　　排放標準
5-3　廢水種類
5-4　廢水處理系統介紹
5-5　廢水處理之規劃設計運轉

第6章　電力供應與中央監控
6-1　前　言
6-2　電力供應系統組成
6-3　受電供電設備
6-4　建廠電力系統規劃
6-5　電力供應系統設備運轉管理
6-6　廠務中央監控系統

第7章　廠務設施架構
7-1　前　言
7-2　冰水及冷凝冷卻水
7-3　熱水、蒸氣與柴油、瓦斯供應系統
7-4　製程冷卻水
7-5　乾燥壓縮空氣／呼吸用空氣
7-6　製程真空和清潔用真空系統

第8章　環境保護與工業安全維護
8-1　前　言
8-2　環保與工安之功能目的
8-3　半導體與光電廠廢氣處理規劃
8-4　廢氣種類與排放標準
8-5　廢氣處理方式
8-6　廢棄物處理與減廢
8-7　有關環保相關申請文件及流程
8-8　工業安全與衛生維護

第9章　管路設計及空間佈置規劃
9-1　前　言
9-2　管路材質選用
9-3　氣體管路配管
9-4　管路標示
9-5　管路設計規劃
9-6　管路之空間佈置

第10章 建廠設計評估及施工監造管理
10-1　前　言
10-2　建廠工程規劃
10-3　建廠工程設計及施工執行流程

第11章 風險評估管理計劃
11-1　前　言
11-2　風險管理四要素
11-3　風險評估程序
11-4　損害防阻執行
11-5　災害復原計畫

第12章 高科技廠建廠及運轉成本分析
12-1　前　言
12-2　建廠時程
12-3　建廠成本分析
12-4　廠務系統用量分析

第13章 結　語
附　 　錄 簡稱字彙

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