集成電路工藝 PDK 技術 — 基於華大九天設計平臺的 PDK 開發教程

劉軍,陳展飛,朱能勇

集成電路工藝 PDK 技術 — 基於華大九天設計平臺的 PDK 開發教程
  • 出版商: 電子工業
  • 出版日期: 2024-10-01
  • 售價: $330
  • 貴賓價: 9.5 折 $314
  • 語言: 簡體中文
  • 頁數: 220
  • ISBN: 7121489368
  • ISBN-13: 9787121489365

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商品描述

從集成電路產業鏈來看，設計與製造是最核心的兩大環節。PDK技術正是將這兩大環節連結在一起的橋梁，同時也是EDA環境中最核心的內容，它使最尖端的製造技術可以應用到最先進的設計過程中。長期以來，PDK技術被國外所壟斷，使得我們在電路設計過程中不得不依賴於國外的EDA環境，給我們國家的集成電路產業帶來"卡脖子”的風險。本書立足於國產EDA工具平臺——華大九天EDA工具集，詳細講述了EPDK的開發流程。全書共有六個章節，分別介紹了PDK的背景、PDK的架構、EPDK開發流程、開發實例，以及驗證方法等內容，並配有相應的習題，使讀者在掌握內容的同時，可以在日常工作中進行實踐。

目錄大綱

目錄
第1章 緒論
1.1 PDK簡介
1.2 PDK分類
1.2.1 CPDK
1.2.2 iPDK和OpenAccess數據庫
1.2.3 OpenPDK
1.2.4 ADSPDK
1.3 PDK平臺介紹
1.3.1 國外設計平臺
1.3.2 國外模擬平臺
1.3.3 國外物理驗證平臺
1.4 華大九天PDK平臺
習題
參考文獻
第2章 PDK開發基礎
2.1 PDK開發準備
2.2 新建工程
習題
參考文獻
第3章 EPDK開發
3.1 符號
3.2 TF
3.3 CDF
3.3.1 CDF介紹
3.3.2 CDF操作流程
3.4 回調函數基礎
3.4.1 TCL簡單介紹
3.4.2 TCL在回調函數中的應用示例
3.5 Pcell文件
3.5.1 PythonAPI介紹
3.5.2 基本的形狀類函數介紹
3.5.3 PyCell文件添加和運行
3.6 模型及網表文件
3.6.1 MOSFET模型介紹
3.6.2 HBT模型介紹
3.6.3 HEMT模型介紹
3.6.4 DIO模型介紹
3.6.5 無源器件模型介紹
3.6.6 網表介紹
3.7 物理驗證文件
3.7.1 設計規則檢查
3.7.2 版圖與原理圖一致性檢查
3.7.3 寄生參數提取
3.8 模擬和EM模擬
3.8.1 ALPS模擬器介紹
3.8.2 Netlist Include控件模擬
3.8.3 Process Include元件
3.8.4 數據導入和導出
3.8.5 數據圖形計算
3.8.6 模擬控件
3.8.7 模擬模板添加
3.8.8 MOSFET模擬示例
3.8.9 襯底文件設置
3.8.10 EM模擬工具
3.9 PDK元件幫助
習題
參考文獻
第4章 EPDK實例
4.1 無源器件開發實例
4.1.1 電容
4.1.2 電阻
4.1.3 電感
4.2 有源器件開發實例
4.2.1 二極管
4.2.2 HEMT
4.2.3 HBT
4.2.4 MOSFET
4.3 傳輸線開發實例
4.3.1 MLine
4.3.2 MCLine
4.3.3 MCFilter
4.3.4 MBend
4.3.5 MCross
4.3.6 MCurve
4.3.7 MStep
4.3.8 MTaper
4.3.9 MTee
習題
參考文獻
第5章 EPDK驗證
5.1 回調函數驗證
5.2 網表驗證
5.3 參數化單元驗證
5.4 模型驗證
5.5 物理規則驗證
習題
參考文獻
第6章 結束語
附錄A 專業詞匯表

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